氮氣在真空高溫氣氛爐中的應用原理

真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空爐是有嚴格的真空密封裝置，金屬零件進行真空熱處理均在密閉的真空爐內進行，因此，獲得和維持爐子原定的漏氣率，真空爐的工作真空度，對確保零件真空熱處理的質量有著非常重要的意義。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進行的，真空熱處理可以實現幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。

    氮氣在真空氣氛爐中的應用原理主要包含兩個方面，都是利用氮氣的化學性質穩(wěn)定、不活潑性質，是在加熱時，特別是在1000℃以上時，為了防止Cr等金屬元素在高的真空度下的揮發(fā)，在抽真空到1~5Pa后回充氮氣，以調整爐內的真空度，防止金屬元素的揮發(fā)；二是在淬火時，為了提高冷卻能力（般來說，真空度越高，無論是空冷還是油冷，則冷卻能力越差），根據不同的淬火冷卻方法、不同的爐型，而采用回充氮氣，從而選擇在不同的真空度下淬火，以得到不同的淬火烈度。補充：真空爐用氮氣濃度應≥99.999%